Blitzlampenausheilung zur Optimierung von Silizium-Dünnschichten: Technologieangebot TA 18 034

Innovatives Verfahren: Thermische Kurzzeitbehandlung mittels Blitzlampentechnologie zunächst amorpher Silizium-Schichten

Der Deutsche Technologiedienst sucht im Auftrag des Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf nach Partnern für die Technologieentwicklung, nach Partnern zur Beantragung von Fördermitteln, nach Lizenznehmern und/oder Patentkäufern zum Thema:

„Blitzlampenausheilung (Flash Lamp Annealing) für die Optimierung von Silizium-Dünnschichten auf empfindlichen Substraten“

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